產品目錄連結
廠務類設備 / Gas Purifier- H2 / TERA TPH-CAG-200N
氫氣純化器/ Gas Purifier- H2
TERA TPH-CAG-200N主要應用於高科技產業的超高純度制程氣體供應、或一般應用氣體之純淨氣體設備，可提高及確保氣體應用於制程品質良率，提高生產效能，此系統提供超純氫氣當載氣，其應用項目，包括半導體、光電晶圓生產使用。
相關應用
MOCVD在執行氣象沉積作業時，需要高純度的氣體當載氣。 Si epitaxy / MOCVD廠務類設備 / Gas Purifier- N2 / TERA TPH-CAG-200N
氮氣純化器/ Gas Purifier- N2
TERA TPH-CAG-200N主要應用於高科技產業的超高純度制程氣體供應、或一般應用氣體之純淨氣體設備，可提高及確保氣體應用於制程品質良率，提高生產效能，此系統提供超純氫氣當載氣，其應用項目，包括半導體、光電晶圓生產使用。
相關應用
MOCVD在執行氣象沉積作業時，需要高純度的氣體當載氣。
Si epitaxy / MOCVD
廠務類設備 / Gas Purifier- NH3 / TERA TPH-CA-40N
氨氣純化器/ Gas Purifier- NH3
TERA TPH-CA-40N主要應用於高科技產業的超高純度制程氣體供應、或一般應用氣體之純淨氣體設備，可提高及確保氣體應用於制程品質良率，提高生產效能，此系統提供超純氫氣當載氣，其應用項目，包括半導體、光電晶圓生產使用。
相關應用
MOCVD在執行氣象沉積作業時，需要高純度的氣體當載氣。 Si epitaxy / MOCVD廠務類設備 / Gas Purifier- NH3 / WONIK ACA-NH3-050
氨氣純化器/ Gas Purifier- NH3
WONIK ACA-NH3-050主要應用於高科技產業的超高純度制程氣體供應、或一般應用氣體之純淨氣體設備，可提高及確保氣體應用於制程品質良率，提高生產效能，此系統提供超純氫氣當載氣，其應用項目，包括半導體、光電晶圓生產使用。
相關應用
MOCVD在執行氣象沉積作業時，需要高純度的氣體當載氣。 Si epitaxy / MOCVD
廠務類設備 / Gas Cabinet / K.C.Tech Safegas™-90
氣瓶供應櫃/ Gas Cabinet
K.C.Tech Safegas™-90可應用於多種特殊氣體供應系統。氣瓶櫃包含供氣盤面，控制器和面板,完全包覆的箱體,排氣管路,並依需求加裝,溫度偵測器,灑水頭,UVIR偵測器等.另外，幾乎所有氣體都需要使用到。
相關應用
半導體生產製程中，所需使用到的相關氣體需搭配氣瓶櫃使用。 Si epitaxy / MOCVD廠務類設備 / Gas Cabinet / WONIK FA-2000II
氣瓶供應櫃/ Gas Cabinet
WONIK FA-2000II可應用於多種特殊氣體供應系統。氣瓶櫃包含供氣盤面，控制器和面板,完全包覆的箱體,排氣管路,並依需求加裝,溫度偵測器,灑水頭,UVIR偵測器等.另外，幾乎所有氣體都需要使用到。
相關應用
半導體生產製程中，所需使用到的相關氣體需搭配氣瓶櫃使用。 Si epitaxy / MOCVD
廠務類設備 / Gas Scrubber / Edwards- Atlas
洗滌塔 /Scrubber
Edwards- Atlas™ 可靠性、極佳的粉體處理能力和耐腐蝕性，可為半導體、平板顯示器等產業提供廢氣處理的效能。Atlas 廢氣處理技術︰ 適用於常見 CVD 氣體 及EPI 和 MOCVD 中安全處理氫氣製程。
相關應用
半導體生產製程中，所需使用到的相關廢棄洗滌塔，均搭配MOCVD及乾蝕刻/沉積設備使用，主要目的是處理製程中所產生的廢氣。 Si epitaxy / MOCVD廠務類設備 / Gas Scrubber / NewTechWave- NTW 1200 WC
氣體洗滌塔 /Gas Scrubber
NTW 1200WC 具極佳處理能力和耐腐蝕性的洗滌塔，可為半導體、平板顯示器等產業提供廢氣處理的效能。廢氣處理適用於常見 CVD 氣體 及EPI 和 MOCVD生產過程中所產生的廢氣處理。
相關應用
半導體生產製程中，所需使用到的相關廢棄洗滌塔，均搭配MOCVD及乾蝕刻/沉積設備使用，主要目的是處理製程中所產生的廢氣。 Si epitaxy / MOCVD
廠務類設備 / Scrubber / UNISEM MAGMA -2000
氣體洗滌塔 /Gas Scrubber
MAGMA-2000 具極佳處理能力和耐腐蝕性的洗滌塔，可為半導體、平板顯示器等產業提供廢氣處理的效能。廢氣處理適用於常見 CVD 氣體 及EPI 和 MOCVD生產過程中所產生的廢氣處理。